3. 工業利用 3. 6半導体プロセスへの応用 Application to the semiconductor process.

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収録刊行物

  • Radioisotopes

    Radioisotopes 44(10), 749-753, 1995-10

    日本アイソト-プ協会

参考文献:  8件中 1-8件 を表示

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    古川静二郎

    ULSIプロセスの基礎技術, 236-239, 1991

    被引用文献1件

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    吉見武夫

    月刊Semiconductor World 4月号, 66-73, 1993

    被引用文献1件

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    右田智裕

    電子情報通信学会技術報告, 43-48, 1992

    被引用文献1件

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    布施玄秀

    ここまできたイオン注入技術, 60-62, 1991

    被引用文献1件

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    SZE S. M.

    Physics of Semiconductor Devices, 31-21, 1969

    被引用文献1件

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    三宅雅保

    電子通信情報学会技術報告, 37-42, 1991

    被引用文献1件

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    TSAI M. Y.

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    DOI 被引用文献1件

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    MIYAKE M.

    J. Appl. Phys. 63, (5), 1754-1757, 1988

    被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002392003
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00351589
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    00338303
  • NDL 記事登録ID
    3636399
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学) // ZN36(科学技術--原子力工学・工業) // ZP2(科学技術--化学・化学工業--物理化学) // ZS45(科学技術--医学--放射線医学)
  • NDL 請求記号
    Z15-20
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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