Study of Depth Distribution Shift of Copper on Silicon Wafer Surface Using Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometry

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著者

    • MORI Yoshihiro
    • Advanced Technology Research Laboratories, Nippon Steel Corporation
    • SHIMANOE Kengo
    • Advanced Technology Research Laboratories, Nippon Steel Corporation

収録刊行物

  • Analytical sciences : the international journal of the Japan Society for Analytical Chemistry

    Analytical sciences : the international journal of the Japan Society for Analytical Chemistry 12(2), 277-279, 1996-04-10

参考文献:  8件中 1-8件 を表示

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    被引用文献6件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002408131
  • NII書誌ID(NCID)
    AA10500785
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    09106340
  • データ提供元
    CJP書誌 
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