シリコン酸化膜の局所構造緩和過程の研究 A Study on the Relaxation Processes of SiO_2 Bonding Structures on Si(100) Surfaces

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  • 真空

    真空 42(1), 25-30, 1999-01

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  21件中 1-21件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476028
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4643871
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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