LiNbO_3基板上へのZnOスパッタ薄膜の形成 Deposition of ZnO Thin Films on LiNbO_3 Substrates Using Sputtering Technique

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 山本 英樹 YAMAMOTO Hideki
    • 米子工業高等専門学校電子制御工学科 Department of Electronic Control Engneering, Yonago National College of Technology
    • 雑賀 憲昭 SAIGA Noriaki
    • 米子工業高等専門学校電子制御工学科 Department of Electronic Control Engneering, Yonago National College of Technology
    • 西守 克己 NISHIMORI Katsumi
    • 鳥取大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University

抄録

ZnO thin films were deposited on several LiNbO<SUB>3</SUB> substrates with specified orientation by a rf-sputtering technique. The films were deposited on the substrates at room temperature or 573 K in various oxygen-argon atmospheres. From X-ray diffraction pattern, ZnO (002) reflection peak was measured for both of x and z cut LiNbO<SUB>3</SUB> substrates. ZnO (002) peak intensity depended on gas flow rate of oxygen to argon and anneal temperature. When the film was deposited on z cut LiNbO<SUB>3</SUB> substrate at 573 K in O<SUB>2</SUB> (20%) + Ar (80%) gas and annealed at 773 K in air, the film showed the crystalline growth highly oriented at [002] direction.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 163-166, 1999-03 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  6件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476206
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4714221
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ