チタン製真空容器の真空特性 Vacuum Characteristics of Titanium Chamber

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抄録

Surface roughness and vacuum characteristic of pure titanium plates modified by buffing and electrolytic polishing were investigated by atomic force microscopy (AFM) and thermal desorption spectroscopy. Surface roughness of the titanium plates decreases after polishing and a typical value of the surface roughness (Ra) is 12.9 nm at 10 × 10 μm range by AFM. The magnitudes of ion currents due to outgassing such as H<SUB>2</SUB>, H<SUB>2</SUB>O, N<SUB>2</SUB> and CO<SUB>2</SUB> from the polished titanium plates are smaller than those from the polished stainless steel plates by a factor of 10. The polished titanium is used to prepare a vacuum chamber with O-ring seals. The chamber is pumped down by a turbo molecular pump and the pressure reaches 1.2 × 10<SUP>-7</SUP> Pa after a 78 h baking at 150°C.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 200-203, 1999-03 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  4件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476272
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4714499
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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