レーザアブレーション法を用いたLiNbO_3薄膜の作製 LiNbO_3 Thin Film Prepared by Pulsed Laser Deposition

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

抄録

A LiNbO<SUB>3</SUB> thin film was successfully fabricated onto a sapphire (001) substrate using pulsed laser deposition. The film quality was largely affected by substrate temperature, oxygen gas pressure, laser fluence and laser repetition frequency. By adjusting these conditions, a highly c-axis oriented LiNbO<SUB>3</SUB> film was obtained. The ordinary refractive index of the film became 2.28 at 632.8 nm of wavelength, which coincided with that of a LiNbO<SUB>3</SUB> single crystal. RHEED observation showed the film had twin boundaries. Further improvements are now undergoing.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 261-264, 1999-03 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  7件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476415
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4714965
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ