光第二高調波発生(SHG)法によるGe/Ge-oxide界面の評価 Optical Second Harmonic Observation of the Ge/Ge-Oxide Interface

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著者

    • 大橋 弘明 OOHASHI Hiroaki
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
    • 田中 英樹 TANAKA Hideki
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
    • 佐野 陽之 [他] SANO Haruyuki
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
    • 水谷 五郎 MIZUTANI Goro
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
    • 潮田 資勝 USHIODA Sukekatsu
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology

抄録

The reflected optical second harmonic generation from the interface between Ge (111) and germanium oxide layers has been measured in dry nitrogen atmosphere as a function of the sample rotation angle around its surface normal. The germanium oxide layer was produced either by oxidizing the Ge (111) substrate in air at room temperature (natural oxidation) or by oxidizing the Ge (111) substrate in pure oxygen gas at 823 K (thermal oxidation). A difference was found in the SH intensity in <I>p</I>-in/<I>p</I>-out polarization configuration between the Ge/native-oxide interface and the Ge/ thermal-oxide interface. By XPS measurement, we found that GeO and GeO<SUB>2</SUB> were formed at the Ge (111) /nativeoxide interface and at the Ge (111) /thermal-oxide interface, respectively. We conclude that the difference in the interface structure has led to the difference in the SH intensity pattern.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 301-304, 1999-03 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  12件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476488
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4715263
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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