Ba_<1-x>Rb_xBiO_yスパッタ薄膜の作製 The Preparation of Ba_<1-x>Rb_xBiO_y Sputtering Films

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著者

    • 直江 寛之 NAOE Hiroyuki
    • 鳥取大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University
    • 三谷 謙 MITANI Yuzuru
    • 鳥取大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University
    • 岸田 悟 KISHIDA Satoru
    • 鳥取大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University
    • 戸田 典彦 TODA Fumihiko
    • 鳥取大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University
    • 徳高 平蔵 TOKUTAKA Heizo
    • 鳥取大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University

抄録

We prepared the Ba<SUB>1-x</SUB>Rb<SUB>x</SUB>BiO<SUB>y</SUB> (BRBO) thin films by rf magnetron sputtering using He+ O<SUB>2</SUB> gas (He = 80%). The XPS results indicated that the BRBO thin films contained Ba, Rb, Bi and O. From the X-ray diffraction patterns and R-T characteristics of the BRBO films, we found thet the films were (110) -oriented, and that the resistance of the BRBO film were dependent on the film thickness.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 365-367, 1999-03 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476609
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4716372
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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