超小型質量分析計の反応性スパッタリングプロセス計測への応用 Application of Micropole Analyzers to the Measurement of Reactive Sputtering Processes

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著者

抄録

During reactive sputtering processes for TiN film fabrication, a small mass analyzer (Micropole analyzer) was used to study surface reaction kinetics and to measure ionic fluxes from the peripheral plasma toward the vessel wall. A rate limiting reaction of Ar<SUP>+</SUP>-induced desorption of N<SUB>2</SUB> has been identified and its reaction cross section is evaluated. Ion fluxes increase with the increase of the plasma potential for the total pressure above 0.25 Pa.

収録刊行物

  • 真空

    真空 42(3), 388-391, 1999-03

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  5件中 1-5件 を表示

  • <no title>

    FERRAN R. J.

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    被引用文献2件

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    伴野達也

    真空 40, 671, 1997

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    道園真一郎

    真空 35, 381, 1992

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    BANNO T.

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    ERENTS S. K.

    J. Nucl. Mater. 63, 399, 1976

    DOI 被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476655
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4716467
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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