多孔式電子ビーム励起プラズマソースの開発とダイヤモンド様炭素膜の作製 Preparation of Diamond-Like Carbon Film with Electron Beam Excited Plasma (EBEP) Source

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抄録

A multi-hole type of electron beam excited plasma (EBEP) is developed and applied for depositing Diamond-Like Carbon (DLC) film. The bombarding ion energy at substrate surface is controlled by the electron beam from EBEP, without external bias power supply. The film has a uniformity of ± 4% in 80 mm diameter. A deposition rate of 1 nm/ sec is obtained. The ratio of luminescence to peak height at the wavenumber <I>k</I> = 1550 cm<SUP>-1</SUP> in Raman spectrum of DLC film decreased by changing electron beam acceleration voltage from 30 V to 200 V. Moreover the formation of DLC film on glass substrate is successfully obtained without bias power supply.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 401-404, 1999-03 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  5件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476683
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4716524
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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