Si表面の原子層酸化のナノメータースケール観察 Nanometer-scale Observation of Layer-by-layer Oxidation of Si Surfaces

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 真空

    真空 42(3), 420, 1999-03

参考文献:  2件中 1-2件 を表示

  • <no title>

    WATANABE H.

    Surf. Sci 385, L952, 1997

    被引用文献13件

  • <no title>

    WATANABE H.

    Phys. Rev. Lett. 80, 345, 1998

    被引用文献48件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476720
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ