表面シリサイド形成層と下地金属界面の電界イオン顕微鏡による評価

書誌事項

タイトル別名
  • Evaluatiuon of Surface Silicide Growth and Substrate Metal Interfaces with Field Ion Microscopy

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収録刊行物

  • 真空

    真空 42 (3), 422-, 1999-03

参考文献 (3)*注記

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詳細情報

  • CRID
    1571980073996108288
  • NII論文ID
    10002476727
  • NII書誌ID
    AN00119871
  • ISSN
    05598516
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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