表面シリサイド形成層と下地金属界面の電界イオン顕微鏡による評価
書誌事項
- タイトル別名
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- Evaluatiuon of Surface Silicide Growth and Substrate Metal Interfaces with Field Ion Microscopy
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収録刊行物
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- 真空
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真空 42 (3), 422-, 1999-03
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詳細情報
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- CRID
- 1571980073996108288
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- NII論文ID
- 10002476727
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- NII書誌ID
- AN00119871
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- ISSN
- 05598516
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles