表面シリサイド形成層と下地金属界面の電界イオン顕微鏡による評価 Evaluatiuon of Surface Silicide Growth and Substrate Metal Interfaces with Field Ion Microscopy

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  • 真空

    真空 42(3), 422, 1999-03

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  • <no title>

    NISHIKAWA O.

    J.Vac.Sci.Technol B1, 6, 1983

    被引用文献6件

  • <no title>

    TSONG T. T.

    J.Vac.Sci.Technol 1, 915, 1983

    被引用文献5件

  • <no title>

    OKUNO K.

    Jpn. J. Appl. Phys. 34, 5783, 1995

    被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476727
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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