ストレート型のWカソード使用によるホローカソード放電コーティング条件とTiN膜質 HCD Coating Conditions and Properties of TiN Film with Straight-type W Cathode

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 真空

    真空 42(3), 424, 1999-03

参考文献:  1件中 1-1件 を表示

  • <no title>

    井口征夫

    真空 38, 639, 1995

    被引用文献9件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476734
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ