プラズマ酸化過程におけるSiの表面応力の研究 Study on Silicon Surface Stress during Plasma Oxidation

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  • 真空

    真空 42(3), 427-428, 1999-03

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476739
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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