水素化が及ぼすシリコン表面の偏光解析パラメータの変化 The Change in Ellipsometry Parameters during Hydrogenation of SiO_2

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収録刊行物

  • 真空

    真空 42(3), 465, 1999-03

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  • <no title>

    KUROKI H.

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    被引用文献1件

  • <no title>

    FINK D.

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    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476849
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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