水素化が及ぼすシリコン表面の偏光解析パラメータの変化
書誌事項
- タイトル別名
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- The Change in Ellipsometry Parameters during Hydrogenation of SiO_2
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収録刊行物
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- 真空
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真空 42 (3), 465-, 1999-03
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570009749159110784
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- NII論文ID
- 10002476849
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- NII書誌ID
- AN00119871
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- ISSN
- 05598516
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles