水素化が及ぼすシリコン表面の偏光解析パラメータの変化

書誌事項

タイトル別名
  • The Change in Ellipsometry Parameters during Hydrogenation of SiO_2

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収録刊行物

  • 真空

    真空 42 (3), 465-, 1999-03

参考文献 (2)*注記

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1570009749159110784
  • NII論文ID
    10002476849
  • NII書誌ID
    AN00119871
  • ISSN
    05598516
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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