シリコンおよび二酸化シリコンのフッ素負イオンエッチング特性 Negative-Fluorine-Ion Etching Properties of Silicon Substrate and Silicon Oxides

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収録刊行物

  • 真空

    真空 42(3), 482, 1999-03

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  • <no title>

    SAMUKAWA S.

    Appl. Phys. Lett. 68, 316, 1996

    被引用文献7件

  • <no title>

    TSUJI H.

    Rev. Sci. Insturm. 67, 1012, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    BARONE M. E.

    J. Appl. Phys. 77, 1263, 1995

    被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476898
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌 
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