有磁場マイクロ波プラズマエッチング容器内壁面への入射イオンの分析 Analysis of Incident Ions Inner Surface of Magnetic Microwave Plasma Etching Chamber

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(3), 483, 1999-03 

参考文献:  1件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  1件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002476902
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用 
ページトップへ