BCl_3系ガスを用いたCoZrNb膜のRIE Reactive Ion Etching of CoZrNb Film using BCl_3

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収録刊行物

  • 日本応用磁気学会研究会資料

    日本応用磁気学会研究会資料 106, 19-24, 1998-07-16

参考文献:  4件中 1-4件 を表示

  • <no title>

    MANTEI T. D.

    Plasma Processing of Semiconductors, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    KINOSHITA K.

    IEEE Trans. Magn. 27, 4888, 1991

    被引用文献6件

  • <no title>

    NAKATANI I

    IEEE Trans. Magn. 32, 4448, 1996

    被引用文献12件

  • <no title>

    ICHIHARA K.

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, 4874, 1997

    被引用文献4件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002521531
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00351217
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13407562
  • データ提供元
    CJP書誌 
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