薄膜ヘッドプロセスへの反応性イオンエッチング法の適用 Application of Reactive Ion Etching to Thin Film Head Process

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 日本応用磁気学会研究会資料  

    日本応用磁気学会研究会資料 106, 31-36, 1998-07-16 

参考文献:  10件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002521547
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00351217
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13407562
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ