Application of Reactive Ion Etching to Thin Film Head Process
-
- FUYAMA M.
- Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
- OKADA T.
- Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
- YOSHIDA N.
- Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
- KOMURO M.
- Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
- FUKUI H.
- Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.
Bibliographic Information
- Other Title
-
- 薄膜ヘッドプロセスへの反応性イオンエッチング法の適用
Search this article
Journal
-
- 日本応用磁気学会研究会資料
-
日本応用磁気学会研究会資料 106 31-36, 1998-07-16
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1571980073998509312
-
- NII Article ID
- 10002521547
-
- NII Book ID
- AN00351217
-
- ISSN
- 13407562
-
- Text Lang
- ja
-
- Data Source
-
- CiNii Articles