高厚膜, 狭ピッチレジストの開発と応用 Investigations of the Resists for Thick and Fine Pitch Pattern and Its Applications

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著者

    • 中崎 展男 NAKAZAKI Nobuo
    • 旭化成工業株式会社電子応用研究所電子プロセス研究室 Electronics Materials and Devices Laboratory, Asahi Chemical Industry Ltd.
    • 酒部 健一 SAKABE Ken-ichi
    • 旭化成工業株式会社電子応用研究所電子プロセス研究室 Electronics Materials and Devices Laboratory, Asahi Chemical Industry Ltd.
    • 吉田 耕造 [他] YOSHIDA Kouzou
    • 旭化成工業株式会社電子応用研究所電子プロセス研究室 Electronics Materials and Devices Laboratory, Asahi Chemical Industry Ltd.
    • 古川 祥一 FURUKAWA Shouichi
    • 旭化成工業株式会社電子応用研究所電子プロセス研究室 Electronics Materials and Devices Laboratory, Asahi Chemical Industry Ltd.
    • 山田 浩 YAMADA Hiroshi
    • 旭化成工業株式会社電子応用研究所電子プロセス研究室 Electronics Materials and Devices Laboratory, Asahi Chemical Industry Ltd.

収録刊行物

  • 回路実装学会誌  

    回路実装学会誌 12(4), 224-227, 1997-07-20 

    プリント回路学会

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002522587
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10564349
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13410571
  • NDL 記事登録ID
    4257793
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1820
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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