ArFエキシマレーザーアブレーション閾値近傍での多重照射によるSi_3N_4膜表面層の突起物出現とシリコン析出 Stick like structures and surface modification of Si_3N_4 CVD thin film induced by ArF excimer laser irradiation near the threshold of ablation

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収録刊行物

  • レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers  

    レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers 15, 153, 1995-01-01 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002525642
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604265
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    09136355
  • データ提供元
    CJP書誌 
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