ArFエキシマレーザーアブレーション閾値近傍での多重照射によるSi_3N_4膜表面層の突起物出現とシリコン析出

• 瀧川 靖雄

  大阪電通大

• 高橋 康夫

  大阪電通大

• 仲前 一男

  大阪府立大

• 黒澤 宏

  宮崎大

• 佐々木 亘

  宮崎大

• 山中 龍彦

  大阪大レーザー研

書誌事項

タイトル別名

• Stick like structures and surface modification of Si_3N_4 CVD thin film induced by ArF excimer laser irradiation near the threshold of ablation

収録刊行物

• レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers

  レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers 15 153-, 1995-01-01

詳細情報

• CRID: 1573668923858673152
• NII論文ID: 10002525642
• NII書誌ID: AA11604265
• ISSN: 09136355
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles