RF-IADプロセスによるTiO_2薄膜製作時のアルゴン及び酸素混合比に対する光学特性及び膜構造依存性 Development of Optical and Structural Properties of TiO_2 Thin Films on Mixed Ratio of Argon and Oxygen Ions in RF-IAD Process

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収録刊行物

  • レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers  

    レーザー学会学術講演会年次大会講演予稿集 = Annual meeting, of the Laser Society of Japan digest of technical papers 16, 152, 1996-01-01 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002526339
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11604265
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    09136355
  • データ提供元
    CJP書誌 
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