高純度オゾンビームを用いたシリコン極薄酸化膜の形成と評価

• 一村 信吾

Bibliographic Information

Other Title

• コウ ジュンド オゾン ビーム オ モチイタ シリコン ゴクウス サンカ マク
• ミニ特集 「表面酸化の評価と制御」
• ミニ トクシュウ ヒョウメン サンカ ノ ヒョウカ ト セイギョ

Journal

• まてりあ = Materia Japan

  まてりあ = Materia Japan 37 (3), 166-170, 1998-03

  仙台 : 日本金属学会 ; 1994-

Details

• CRID: 1520009410328708480
• NII Article ID: 10002545001
• NII Book ID: AN10433227
• ISSN: 13402625
• NDL BIB ID: 4437198
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4437198
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles