溶液気化CVD法によるDRAM用高誘電率キャパシタ膜形成技術の開発

• 松野 繁

• 内川 英興

• 渡井 久男

Bibliographic Information

Other Title

• ヨウエキ キカ CVDホウ ニヨル DRAMヨウ コウ ユウデンリツ キャパシ

Journal

• まてりあ = Materia Japan

  まてりあ = Materia Japan 37 (6), 528-530, 1998-06

  仙台 : 日本金属学会 ; 1994-

Details

• CRID: 1520009410348291200
• NII Article ID: 10002545449
• NII Book ID: AN10433227
• ISSN: 13402625
• NDL BIB ID: 4512251
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4512251
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles