原子層のSi酸化膜を用いたナノ構造形成
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- ゲンシソウ ノ Si サンカマク オ モチイタ ナノ コウゾウ ケイセイ
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Journal
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- まてりあ = Materia Japan
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まてりあ = Materia Japan 37 (11), 931-937, 1998-11
仙台 : 日本金属学会 ; 1994-
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Details
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- CRID
- 1520009410335871488
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- NII Article ID
- 10002546558
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- NII Book ID
- AN10433227
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- ISSN
- 13402625
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- NDL BIB ID
- 4606295
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles