半経験的分子軌道法によるSi2Cl-H2系CVD反応の素過程の予測

• 斎藤 永宏

• 不破 章雄

Bibliographic Information

Other Title

• ハンケイケンテキ ブンシ キドウホウ ニ ヨル Si2Cl-H2ケイ CVD ハンノウ ノ ソ カテイ ノ ヨソク

Journal

• 日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials

  日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials 63 (3), 319-325, 1999-03

  仙台 : 日本金属学会 ; 1937-

Details

• CRID: 1520572360318817536
• NII Article ID: 10002549156
• NII Book ID: AN00187860
• ISSN: 00214876
• NDL BIB ID: 4692042
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4692042
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles