高周波スパッタリングしたNi薄膜の残留応力測定 Residual Stress Measurement in Thin Films of RF-Sputtered Nickel

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収録刊行物

  • 大会講演概要集  

    大会講演概要集 1996(2), 59-64, 1996-10-01 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002581169
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11592632
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • データ提供元
    CJP書誌 
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