LSI特定箇所の断面TEM試料作製技術 TEM sample preparation of specific point for LSI devices

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収録刊行物

  • 電子顕微鏡

    電子顕微鏡 32(1), 44-47, 1997-03-31

    日本電子顕微鏡学会

参考文献:  12件中 1-12件 を表示

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    SZOT J.

    J. Vac. Sci. Technol. B10(2), 575, 1992

    被引用文献1件

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    田村正志

    電子材料別冊'97超LSI製造試験装置ガイドブック 159

    被引用文献1件

  • <no title>

    加藤好美

    日本電子顕微鏡学会第49回学術講演会予稿集 58, 1993

    被引用文献1件

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    ISHITANI T.

    Jpn. J. Appl. Phys. 29(10), 2283, 1990

    被引用文献1件

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    石谷亨

    電子材料(1992別冊) 126

    被引用文献1件

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    ISHITANI T.

    J. Electron Microsc. 43, 322, 1994

    被引用文献9件

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    大塚祐二

    日本電子顕微鏡学会第49回学術講演会予稿集 54, 1993

    被引用文献1件

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    ISHITANI T.

    J. Electron Microsc. 44, 331, 1995

    被引用文献1件

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    朝山匡一郎

    日本電子顕微鏡学会第49回学術講演会予稿集 155, 1995

    被引用文献1件

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    ISHITANI T.

    J. Vac. Sci. Technol. B9(5), 2633, 1991

    DOI 被引用文献2件

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    ISHITANI T.

    J. Vac. Sci. Technol. A 9(6), 3084, 1991

    DOI 被引用文献4件

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    ISHITANI T.

    Jpn. J. Appl. Phys. 29(1), 162, 1990

    DOI 被引用文献1件

被引用文献:  3件中 1-3件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002641212
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00145000
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    04170326
  • NDL 記事登録ID
    4193663
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-896
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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