培養液組成の制御によるSpirulina platensisの培養およびその増殖挙動 Cultivation of Spirulina platensis and its Growth Behavior Controlling Cultivation Medium

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著者

    • 小林 和樹 KOBAYASHI Kazuki
    • バブコック日立(株)呉研究所横浜研究第2部 Yokohama 2nd Department, Kure Research Laoratory, Babcock-Hitachi K. K.
    • 藤田 一紀 FUJITA Kazunori
    • バブコック日立(株)呉研究所横浜研究第2部 Yokohama 2nd Department, Kure Research Laoratory, Babcock-Hitachi K. K.

抄録

<I>Spirulina platensis</I> の高濃度培養を行うために, 培養液の pH と窒素の制御による, 増殖挙動を検討した.スピルリナの培養に炭素源として, 重炭酸ナトリウムを用いるため, 藻体が増殖するに従い, pHが上昇し, pH12以上で増殖は停止した. CO<SUB>2</SUB>ガスを通気して培養液のpHを8.5~10の間に制御して培養を行うと, 藻体は窒素源とした硝酸イオン濃度が0になるまで増殖し, 藻体濃度は乾燥重量で 2.2g/<I>l</I>まで増大した. pHを制御し, さらに硝酸塩を硝酸イオン濃度2.0g/<I>l</I>になるように添加すると, 藻体濃度は培養350時間で4.2g/<I>l</I>に達し, pHを制御しないときの約4倍の高濃度培養が可能になった.

Cultivation of <I>Spirulina platensis</I> while controlling pH and nitrate ion in the culture medium was investigated in order to obtain a high density culture. In the cultivation of <I>Spirulina platensis</I> using sodium bicarbonate as a carbon source, the pH value increased during growth of <I>Spirulina</I>, and then the growth stopped at a pH value of more than 12. The cell concentration reached 2.2 g/<I>l</I> by maintaining a pH range of 8.5 to 10.0 using CO<SUB>2</SUB> gas without controlling the nitrate ion concentration. By controlling the pH and adding nitrate to a concentration of 2.0 g/<I>l</I>, the cell concentration reached 4.2 g/<I>l</I> at 350 hours. It was found that the cell concentration was about four times that of the culture without controlling pH and nitrate.

収録刊行物

  • 化学工学論文集  

    化学工学論文集 22(1), 56-59, 1996-01-20 

    The Society of Chemical Engineers, Japan

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002667937
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    3918364
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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