流動層CVD法によるSi_3N_4微粒子のAlN被覆 Coating of Si_3N_4 Fine Particles with AlN by Fluidized Bed-CVD

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抄録

Agglomerates of 100250 μm consisting of Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB> primary particles of 0.76 μm were made with a rotary vibrating sieve. Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB> fine particles were coated with AlN by gas phase reaction with AlCl<SUB>3</SUB> and NH<SUB>3</SUB> in some fluidized beds of the agglomerates. The cross sectional distribution of AlN in the agglomerate was measured by EPMA analysis. As a result, uniform deposition of AlN was obtained at a relatively low reaction temperature and low gas velocity.

収録刊行物

  • 化学工学論文集  

    化学工学論文集 22(2), 412-415, 1996-03-10 

    The Society of Chemical Engineers, Japan

参考文献:  4件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002668538
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    3937007
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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