溶融シリカの製造 Production of Fused Silica

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抄録

半導体素子の封止に用いられる充愼材用の高純度溶融シリカの製造開発を行い, 量産方法を確立した.火炎燃焼式のシリカ溶融炉において, 生産性と熱効率を上げるため小型で高性能の充填層予熱器を接続した部分安定化ジルコニア煉瓦による大型炉を開発すると共に, シリカの特性を利用してインゴットの下抜きによる連続式の溶融炉を開発した.生成する溶融シリカは, 装置からの汚染がないので高純度で, かつ, インゴットが急冷されるためクリストバライト化率の低い高品質品が得られた.

The production process of high purity fused silica for package fillers of semiconductor elements was developed. In the silica melting process via flame combustion, a large-sized furnace made of the partially stabilized zirconia bricks equipped with a compact and highly efficient packed bed preheater was developed to increase the productivity and thermal efficiency. A continuous fusing furnace, in which the silica ingot is drawn from the furnace bottom, was developed. Since the silica was not contaminated in the furnace, the fused silica was produced in high purity. As the ingot was quenched quickly, it was of high quality with a low cristobalite ratio.

収録刊行物

  • 化学工学論文集  

    化学工学論文集 22(5), 1207-1213, 1996-09-10 

    The Society of Chemical Engineers, Japan

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002669669
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    4057592
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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