酸化物を出発材料とした反応溶射の基礎的研究-溶射中の還元反応 Basic Research of Reactive Plasma Spraying of Oxide Ceramics -Reduction During Spraying

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  • 全国講演大会講演論文集

    全国講演大会講演論文集 64, 25-26, 1996-10-15

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

  • <no title>

    恒川好樹

    溶射 26(3), 35, 1989

    被引用文献1件

  • <no title>

    LUGSCHEIDER E.

    Proceedings of TS96 351, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    ECKARDT T.

    Proceeding of TS96 309, 1996

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002688058
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11461805
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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