High Pressure Apparatus for in situ X-ray Diffraction and Electrical Resistance Measurement at Low Temperature

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抄録

A new high pressure apparatus with cubic anvil device has been developed to carry out simultaneously X-ray diffraction and electrical resistance measurement up to 10 GPa at low temperature down to 7 K. This apparatus consists mainly of a uniaxial press for pressure generation, an X-ray diffraction system with an energy dispersive detector, and a cryostat. Some experimental results of the simultaneous measurements obtained by using this apparatus are also reported.

収録刊行物

  • 高圧力の科学と技術 = The Review of high pressure science and technology  

    高圧力の科学と技術 = The Review of high pressure science and technology 7, 1496-1498, 1998 

    The Japan Society of High Pressure Science and Technology

参考文献:  2件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002694487
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10452913
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0917639X
  • NDL 記事登録ID
    4494279
  • NDL 雑誌分類
    ZP1(科学技術--化学・化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-1589
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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