C-9 平板膜冷却効率に対する高主流乱れの影響 : 円孔と拡散孔の比較(熱伝達)

  • 池田 一隆
    (株)東芝電力・産業システム技術開発センター
  • 松田 寿
    (株)東芝電力・産業システム技術開発センター
  • 福山 佳孝
    (株)東芝電力・産業システム技術開発センター

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  • CRID
    1571135649072565120
  • NII Article ID
    10002722782
  • NII Book ID
    AA11639918
  • ISSN
    09191968
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • CiNii Articles

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