誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性 Electrical properties of very thin Al203 films prepared by magnetron sputtering enhanced with an inductively coupled rf plasma.

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 日本応用磁気学会学術講演概要集 = Digest of ... annual conference on magnetics in Japan

    日本応用磁気学会学術講演概要集 = Digest of ... annual conference on magnetics in Japan 21, 313, 1997-10-01

参考文献:  1件中 1-1件 を表示

  • <no title>

    MORITA

    4th ISSP'97 405, 1997

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002730634
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10269644
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ