全反射X線光電子分光法によるTa-Ti多層膜表面の化学状態分析 Total Reflection X-Ray Photoelectron Spectroscopy of a Tantalum-Titanium Multilayer

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著者

    • 河合 潤 KAWAI Jun
    • 京都大学大学院工学研究科 Dept. of materials Science and Engineering, Kyoto Univ.
    • 佐井 誠
    • 京都大学大学院工学研究科 Dept. of materials Science and Engineering, Kyoto Univ.
    • 杉村 哲郎
    • 京都大学大学院工学研究科 Dept. of materials Science and Engineering, Kyoto Univ.
    • 林 好一
    • 京都大学大学院工学研究科 Dept. of materials Science and Engineering, Kyoto Univ.

収録刊行物

  • 材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting

    材料とプロセス : 日本鉄鋼協会講演論文集 = Current advances in materials and processes : report of the ISIJ meeting 12(6), 1424-1427, 1999-09-01

参考文献:  19件中 1-19件 を表示

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  • 全反射X線光電子分光法によるシリコンウェハー上微量元素分析

    飯島 善時 , 三好 康介 , 斎藤 修一

    分析化学 47(11), 873-879, 1998

    CiNii 外部リンク J-STAGE 参考文献26件 被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002766728
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10056461
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09146628
  • データ提供元
    CJP書誌 
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