光独立栄養培養におけるChlorella sp. UK001の細胞径変化に及ぼす培養温度の効果 Effect of Temperature on Change in Cell Diameter of Chlorella sp. UK 001 in Photoautotrophic Culture

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抄録

<I>Chlorella</I> sp. UK001細胞を, 二酸化炭素を炭素源, 光をエネルギー源とする光独立栄養条件下で培養した.入射光強度21.8Wm<SUP>-2</SUP>の下, 培養温度40℃のとき, 96時間の回分培養において, 平均細胞径が2.3μm (標準偏差SD=0.36μm) から11μm (SD=1.9μm) へ増大した.一方, 20, 30, 35, 45℃のときは, 平均細胞径の値は, ほとんど変化しなかった。実験条件下では, 細胞径の変化は, 温度40℃, 入射光強度.6~46Wm<SUP>-2</SUP>の範囲で起こり, このとき細胞数の増加は見られなかった.40℃の培養で得られた細胞について, 生存率と光照射下における酸素発生速度, および暗条件下における酸素吸収速度を検討した.この結果, この細胞は生細胞として充分な活性を保持していることがわかった.また, 静置条件下での沈降試験において, 40℃で96時間培養した細胞 (平均細胞径 : 11μm, SD=1.9μm) の懸濁液の界面沈降速度は, 30℃で96時間培養した細胞 (平均細胞径 : 2.3μm, SD=0.38μm) の約12倍となった.

Chlorella sp. UK 001 cells were cultivated under a photoautotrophic condition, utilizing carbon dioxide and light as carbon and energy sources, respectively. In batch cultures of the cells for 96 h at incident light intensity (<I>I</I><SUB>0</SUB>) of 21.8 W m<SUB>-2</SUB>, when the culture temperature (<I>T</I>) was kept at 40°C, mean diameter of the cells (<I>dc</I>) increased from 2.3 μm (standard deviation (SD) =0.36 μm) to 11 μm (SD = 1.9 μm), while at T = 20, 30, 35 and 45°C, the values of de hardly changed. Under the conditions examined, the appreciable enlargement of the cells occurred at <I>T</I> =40°C and at <I>I</I><SUB>0</SUB> = 16 to 46 W m<SUP>-2</SUP>, and was not accompanied by a substantial increase in the number of cells. From the data on cell viability, oxygen generation rate under light conditions and oxygen consumption rate under dark conditions, the enlarged cells in the culture at 40° C were found to have sufficient activities as living cells. Sedimentation experiments were carried out by standing the cells which were cultivated at 30 and 40°C. The interfacial sedimentation rate of the cells (<I>dc</I>= 11 μm, SD= 1.9 μm) obtained from the culture at 40°C was about twelve times higher than that of cells (de = 2.3 μm, SD = 0.38μm) at 30°C

収録刊行物

  • 化学工学論文集  

    化学工学論文集 23(2), 200-207, 1997-03-10 

    The Society of Chemical Engineers, Japan

参考文献:  15件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002767212
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    4161079
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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