NO_2前吸着を利用したゼオライト固定層による低濃度NOの吸着除去 Adsorption of Low-Concentration NO by a Fixed-Bed of Zeolite Pre-Adsorbed with NO_2

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著者

    • 加藤 格 KATO Itaru
    • 東京都立大学工学部工業化学科 Department of Industrial Chemistry, Faculty of Technology, Tokyo Metropolitan University
    • 佐々木 毅 SASAKI Takeshi
    • 東京都立大学工学部工業化学科 Department of Industrial Chemistry, Faculty of Technology, Tokyo Metropolitan University
    • 加藤 覚 [他] KATO Satoru
    • 東京都立大学工学部工業化学科 Department of Industrial Chemistry, Faculty of Technology, Tokyo Metropolitan University
    • 長浜 邦雄 NAGAHAMA Kunio
    • 東京都立大学工学部工業化学科 Department of Industrial Chemistry, Faculty of Technology, Tokyo Metropolitan University

抄録

低濃度NOの除去に有効な固定層吸着法によるNO<SUB>x</SUB>除去プロセスを開発するために, 水素化ゼオライトへのNO<SUB>2</SUB>の前吸着がNOの吸着量増加に及ぼす影響について検討した.<BR>ヘリウムあるいは窒素を希釈ガスとしてNO<SUB>x</SUB> (NOとNO<SUB>2</SUB>) 濃度を0から1000ppmの間に調整した後に水素化ゼオライトを充填したカラムに流通させて流出してくるNO<SUB>x</SUB>を化学発光法で定量分析した.その結果, ゼオライトにNO<SUB>2</SUB>を前吸着させた後にNOを流通させると, NOを単独に吸着させる場合に比べてNO吸着量が30から40倍増加し, そのNO吸着量は前吸着させるNO<SUB>2</SUB>濃度, 後から流通させるNO濃度およびカラム温度に依存することが判った.300ppm以下の濃度でNO<SUB>2</SUB>を前吸着させた後に1000ppm以下のNOガスを通じると100%のNOが捕捉できた.希釈ガスに窒素を使用した場合とヘリウムを使用した場合では同程度のNO除去効果があった.これらの結果に基づいてNOの吸着除去プロセスを提案した.

The effects of pre-adsorption of NO<SUB>2</SUB> on the enhancement of the adsorption of NO on H-type zeolite are investigated to develop a fixed-bed adsorption process for removing low concentration NO effectively. The concentration of NO<SUB>x</SUB> in the effluent gas from a zeolite column was analyzed by a chemiluminescence method, where the concentration of the NO at the inlet was adjusted to be between 0 to 1, 000 ppm.<BR>It was found that the amount of NO adsorbed increases thirty to forty times when NO<SUB>2</SUB> is preadsorbed on H-type zeolite. The amount of NO adsorbed depends on the concentration of NO<SUB>2</SUB> Pre adsorbed, the concentration of NO supplied, and column temperature. 100% removal of No can be achieved when the concentration of NO is lower than 1, 000 ppm and that of NO<SUB>2</SUB> at the inlet during pre-adsorption is lower than 300 ppm. The extent of NO removal was similar for each diluent gas, nitrogen or helium. Based on these results, an adsorption process was proposed for the removal of NO<SUB>x</SUB>.

収録刊行物

  • 化学工学論文集  

    化学工学論文集 23(4), 532-540, 1997-07-10 

    The Society of Chemical Engineers, Japan

参考文献:  18件

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被引用文献:  3件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002767746
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    4258248
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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