光触媒を用いたUV/光電子法による密閉空間の超清浄化 Super Cleaning of Closed Space by UV/photoelectron Method Using Photocatalyst

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抄録

A new super cleaning equipment of a closed space using a photocatalyst (TiO<SUB>2</SUB>) in a UV/photoelectron method was developed. The newly developed equipment has photocatalyst between photoelectron emitter and electrode (charging space) in the UV/photoelectron equipment to remove gaseous contaminants, such as hydrocarbons. The equipment developed in this work is characterized as follows : 1) It can create a super clean space in which both gaseous contaminants, such as hydrocarbons, ammonia and particles are removed simultaneously, 2) When Si wafer or metallic substrates are set in the clean space inside such an equipment, surface contamination of the substrates is prevented, 3) In evaluation of actual electron device using MOS (Metal-Oxide-Semiconductor) capacitor, the reliability of gate oxides is improved in the time dependent dielectric breakdown (TDDB) characteristics.

収録刊行物

  • エアロゾル研究 = Journal of aerosol research  

    エアロゾル研究 = Journal of aerosol research 13(2), 110-118, 1998-06-20 

    日本エアロゾル学会

参考文献:  21件

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被引用文献:  3件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002782980
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10041511
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09122834
  • NDL 記事登録ID
    4512510
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-1062
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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