Siウエハ表面における有機ガスの吸着機構

• 鍵 直樹

  東京工業大学大学院情報理工学研究科

• 藤井 修二

  東京工業大学大学院情報理工学研究科

• 湯浅 和博

  東京工業大学工学部建築学科

• 藪本 周邦

  NTTアドバンステクノロジ(株)

• 田中 克昌

  (株)フジタ

書誌事項

タイトル別名

• Adsorption Mechanisms of Organic Compounds on Si Wafer Surfaces
• Si ウエハ ヒョウメン ニ オケル ユウキ ガス ノ キュウチャク キコウ

抄録

This study investigated organic compounds in a cleanroom air and on silicon (Si) wafer surfaces using gas chromatograph-mass spectroscopy (GC-MS) and thermal desorption-atmospheric pressure ionization mass spectroscopy (TD-APIMS). Si wafers with hydrogen terminate and with native oxygen exposed in the cleanroom air were analyzed. As an analytical result using TD-APIMS, chained hydrocarbons such as C₂-C₅ alkanes were detected with higher values than phthalates such as DOP and DBP from Si wafers with hydrogen terminate and with native oxygen exposed in the cleanroom air. The adsorption mechanisms of organic compounds on Si wafers were discussed by thermal desorption spectra. Based on these results, the adsorption hierarchy model of organic compounds on Si wafer surfaces was proposed.

収録刊行物

• エアロゾル研究

  エアロゾル研究 13 (2), 142-148, 1998

  日本エアロゾル学会

キーワード

• Cleanroom
• Organic Compound
• Surface Contamination
• Gas Chromatograph-Mass Spectroscopy
• Thermal Desorption-Atmospheric Pressure Ionization Mass Spectroscopy

詳細情報

• CRID: 1390282679319394304
• NII論文ID: 10002783027
• NII書誌ID: AN10041511
• DOI: 10.11203/jar.13.142
• COI: 1:CAS:528:DyaK1cXkt1WlsLc%3D
• ISSN: 1881543X
• ISSN: 09122834
• NDL書誌ID: 4512514
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4512514
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可