次世代集積回路と製造ライン -今後のデバイス展望と300mmウエハ製造ラインの動向- Trends in Next-Generation LSI's and the Fabrication Line -Technology Forecast and 300-mm Wafer Fab-

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 角南 英夫 SUNAMI Hideo
    • 広島大学ナノデバイス・システム研究センター Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University
    • 鈴木 道夫 SUZUKI Michio
    • 日立プラント建設(株)空調プラント事業本部 Industrial Environment Control and Facilities Division, Hitachi Plant Engineering and Construction Company, Ltd.

収録刊行物

  • エアロゾル研究 = Journal of aerosol research  

    エアロゾル研究 = Journal of aerosol research 14(1), 11-18, 1999-03-20 

    日本エアロゾル学会

参考文献:  14件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  1件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002783221
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10041511
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09122834
  • NDL 記事登録ID
    4685530
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-1062
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
ページトップへ