回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第3報) -a-Si : H成膜プロセスにおけるパウダーの影響-
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収録刊行物
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- 精密工学会大会学術講演会講演論文集
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精密工学会大会学術講演会講演論文集 1996 (2), 85-86, 1996-09-01
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570854174075989248
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- NII論文ID
- 10002807659
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- NII書誌ID
- AN1018673X
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles