Applications of High-dielctric and Ferroelectric Thin Films to Memory Devices

• Ishiwara Hiroshi

  Tokco Institute of Technology

Bibliographic Information

Other Title

• 高誘電体・強誘電体薄膜のメモリデバイスへの応用
• コウ ユウデンタイ キョウユウデンタイ ハクマク ノ メモリ デバイス エ ノ

Journal

• IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems

  IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems 117 (3), 210-213, 1997

  The Institute of Electrical Engineers of Japan

Keywords

• 高誘電体
• 強誘電体
• 薄膜
• メモリ
• ニュロデバイス

Details

• CRID: 1390001204607769216
• NII Article ID: 130006843656
• NII Article ID: 10002809451
• NII Book ID: AN10065950
• DOI: 10.1541/ieejeiss1987.117.3_210
• ISSN: 13488155
• ISSN: 03854221
• NDL BIB ID: 4149755
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4149755
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss1987/117/3/117_3_210/_pdf
• Data Source:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles