レーザアブレーション法によるBi系層状強誘電体薄膜の作製--SrBi2Ta2O9とBi4Ti3O12薄膜

• 大石 嘉弘

• 呉 文彪

• 松室 好則

書誌事項

タイトル別名

• レーザ アブレーションホウ ニヨル Biケイ ソウジョウ キョウユウデンタイ
• ULSI用高誘電体・強誘電体薄膜材料技術
• ULSIヨウ コウ ユウデンタイ キョウユウデンタイ ハクマク ザイリョウ ギ

収録刊行物

• 電気学会論文誌. C, 電子・情報・システム部門誌 = IEEJ transactions on electronics, information and systems

  電気学会論文誌. C, 電子・情報・システム部門誌 = IEEJ transactions on electronics, information and systems 117 (3), 238-247, 1997-02

  東京 : 電気学会

詳細情報

• CRID: 1520290885268296960
• NII論文ID: 10002809589
• NII書誌ID: AN10065950
• ISSN: 03854221
• NDL書誌ID: 4149761
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4149761
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles