二重管式同軸線路形マイクロ波プラズマCVDにおけるN₂/SiH₄プラズマのパラメータの空間分布

• 加藤 勇

  早稲田大

• 下田 毅

  早稲田大

• 山岸 俊浩

  早稲田大

書誌事項

タイトル別名

• Spatial Distribution of Plasma Parameter in N₂/SiH₄ Plasma in Double Tubed Coaxial Line Type Microwave Plasma CVD System
• 二重管式同軸線路形マイクロ波プラズマCVDにおけるN2/SiH4プラズマのパラメータの空間分布
• 2ジュウカンシキ ドウジク センロガタ マイクロハ プラズマ CVD ニ オケ

抄録

We have confirmed the new method of probe measurement in N₂/SiH₄ plasma. Using this method, we have measured the spatial distribution of plasma parameters such as electron temperature Te, electron density ne, plasma space potential Vs, floating potential Vf and sheath voltage Vs-Vf with varying the gas flow rate of SiH4 in the chamber of the double tubed coaxial line type microwave plasma CVD (MPCVD) system. In this paper, we report the spatial distribution of these plasma parameters in the chamber of this MPCVD system. And it is cleared that the plasma is very uniform in the chamber.

収録刊行物

• 電気学会論文誌．　Ａ

  電気学会論文誌．　Ａ 116 (7), 617-622, 1996

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• マイクロ波プラズマ
• プラズマパラメータ
• シングルプローブ法
• イオンボンバードメント
• 空間的アフターグロープラズマ

詳細情報

• CRID: 1390282679576294528
• NII論文ID: 130006839336
• NII論文ID: 10000067434
• NII論文ID: 10002819898
• NII書誌ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms1990.116.7_617
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• NDL書誌ID: 3985549
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I3985549
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms1990/116/7/116_7_617/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可