ULSI高アスペクト比SiO_2エッチング技術の現状と展望 Present Situation and Future Prospect of ULSI High Aspect Ratio SiO_2 Etching Technology.

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  • 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society

    電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society 117(10), 999-1003, 1997-10

    電気学会

参考文献:  17件中 1-17件 を表示

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    DOI 被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002822846
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10136312
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03854205
  • NDL 記事登録ID
    4303555
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-793
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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