粉粒流動層における微粒子平均滞留時間に関する研究 -微粒子粒度分布・静電気・湿度の影響- Studies on Mean Residence Time of Fine Particles in a Powder-Particle Fluidized Bed -Effect of Particle Size Distribution, Static Electricity, and Humidity-

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抄録

粉粒流動層の微粒子平均滞留時間と操作条件との関係を調べた.媒体粒子として砂 (<I>d</I><SUB>p</SUB>=550μm), 微粒子として水酸化アルミニウム (<I>d</I><SUB>p</SUB>=1.4~15μm), アルミナ (<I>d</I><SUB>p</SUB>=3μm) を用いた.媒体粒子を流動化させているところへ微粒子を連続供給し, 定常状態下で実験を行った結果, 微粒子平均滞留時間は, 流動化ガス速度が遅くなるほど, あるいは微粒子径が小さくなるほど大きくなった.また, 微粒子平均滞留時間に及ぼす流動化ガス湿度の影響を調べた結果, 流動化ガス相対湿度が75%と高い時には, 微粒子 (水酸化アルミニウム, <I>d</I><SUB>p</SUB>=3μm) 平均滞留時間は, 流動化ガス平均滞留時間の約3,000倍に達した.そして, 用いる粒子の静電気帯電特性やぬれ特性により, ガス湿度の影響は大きく異なることが分かった.一方, 微粒子中の各粒子径毎の平均滞留時間を調べた結果, 微粒子粒度分布が広い場合には, 粒子径毎の平均滞留時間に大きな差を生じることが分かった.均一な微粒子平均滞留時間を要求される場合には, 供給微粒子の粒度分布の調整が必要となる.

The relationship between mean residence time of fine particles and operating conditions in a Powder-Particle Fluidized Bed was studied using silica sand (<I>d</I><SUB>p</SUB>= 550 μm) as coarse particles and, Al(OH)<SUB>3</SUB> (<I>d</I><SUB>p</SUB>=1.4-15 μm) and Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> (<I>d</I><SUB>p</SUB>= 3 μm) as fine particles. Fine particles were fed continuously to the bed and data were obtained under steady state. The mean residence time of fine particles increased with a decrease in gas velocity and fine particle size. When the relative humidity of the fluidization gas was 75 %, the mean residence time of fine particles (Al(OH<SUB>3</SUB>), <I>d</I><SUB>p</SUB> = 3 μm) was 3000 times as large as that of thefluidization gas. The effect of relative humidity depended strongly on the characteristics of charge with static electricity and wetting properties of the fine particles. There was a big difference in the mean residence time of each particle size when particle size distribution was wide. When the uniformity of the mean residence time of each particle size is needed, an adjustment of particle size distribution is required.

収録刊行物

  • 化学工学論文集  

    化学工学論文集 24(4), 628-632, 1998-07-10 

    The Society of Chemical Engineers, Japan

参考文献:  5件

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被引用文献:  3件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002835747
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    4507336
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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