Technological Development of Highly Accurate Diffusion Coefficient Measurement by Shear Cell Method in Germanium Semiconductor Melt

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収録刊行物

  • JASMA : Journal of the Japan Society of Microgravity Application  

    JASMA : Journal of the Japan Society of Microgravity Application 16(1), 33-37, 1999-01-31 

    日本マイクログラビティ応用学会

被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10002845701
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10537663
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09153616
  • NDL 記事登録ID
    4645079
  • NDL 雑誌分類
    ZM33(科学技術--宇宙科学) // ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-621
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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